加熱処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256569
公開番号（公開出願番号）：特開平7-146470
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】【目的】ガラス基板の熱処理(成膜、結晶成長、酸化等で、特にガラス基板の歪み点付近もしくはそれ以上の温度でおこなわれる場合)工程において、良好な基板処理手段・方法を提供する。【構成】基板を概略水平に保持して加熱することによって、基板のそりやたわみ、うねりを減らす。

請求項（抜粋）：

基板を概略水平に保持して加熱する工程を有することを特徴とする加熱処理方法。

IPC (6件)：

G02F 1/1333 500 , G02F 1/136 500 , H01L 21/22 , H01L 21/324 , H01L 29/786 , H01L 21/336

引用特許：

審査官引用 (1件)

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