特許

J-GLOBAL ID：200903041571562875

有機EL装置とその製造方法並びに電子機器

発明者： 川瀬 智己
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359916
公開番号（公開出願番号）：特開2003-163084
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：

【要約】【課題】 隔壁部内の画素形成領域(有機EL素子形成領域)に発光層や正孔注入層が均一に形成され、有機EL素子の欠落部がなく、膜厚が均一な有機EL素子が形成された有機EL装置の提供。【解決手段】 基板上に、マトリクス状に配置された複数の有機EL素子35...と、各有機EL素子35に対してそれぞれ設けられ、有機EL素子35を駆動する半導体素子が形成されてなる有機EL装置であり、上記基板上に各有機EL素子35を形成する有機EL素子形成領域3をそれぞれ取り囲む隔壁部4が形成され、隔壁部4は対向する内壁3b、3b間の幅Wが略均一とされており、各有機EL素子形成領域3に有機EL素子用インクが吐出されて複数の有機EL素子35...が形成されてなる有機EL装置。

請求項（抜粋）：

基板上に、マトリクス状に配置された複数の有機EL素子と、各有機EL素子に対してそれぞれ設けられ、前記有機EL素子を駆動する半導体素子又は電気回路が形成されてなる有機EL装置であり、前記基板上に前記各有機EL素子を形成する有機EL素子形成領域をそれぞれ取り囲む隔壁部が形成され、該隔壁部は対向する内壁間の幅が略均一とされており、前記各有機EL素子形成領域に有機EL素子用インクが吐出されて前記複数の有機EL素子が形成されてなることを特徴とする有機EL装置。

IPC (4件)：

H05B 33/12 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

H05B 33/12 B ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Fターム (9件)：

3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB07 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薄膜パターニング用基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-076979   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 有機発光素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-044437   出願人：シャープ株式会社