特許
J-GLOBAL ID:200903041577603018

セルロースアシレートフイルムの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-247704
公開番号(公開出願番号):特開2002-192541
出願日: 2001年08月17日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】 溶解後の液経時安定性を改善し、製膜後のフイルムの光学特性、機械強度、寸法安定性に優れたセルロースアシレートフイルムを製造する。【解決手段】 セルロースアシレートを実質的に非塩素系の溶剤に溶解してセルロースアシレート溶液を調製する工程、セルロースアシレート溶液からセルロースアシレートフイルムを製膜する工程、そして、セルロースアシレートフイルムを延伸する工程により、Reレターデーション値が20乃至115nmの範囲にあり、Rthレターデーション値が70乃至400nmの範囲にあり、遅相軸角度の面内の平均の絶対値が3°以下であり、そして、遅相軸角度の標準偏差が1.5°以下であるセルロースアシレートフイルムを製造する。
請求項(抜粋):
セルロースアシレートを実質的に非塩素系の溶剤に溶解してセルロースアシレート溶液を調製する工程、セルロースアシレート溶液からセルロースアシレートフイルムを製膜する工程、そして、セルロースアシレートフイルムを延伸する工程により、下記式(I)で定義されるReレターデーション値が20乃至115nmの範囲にあり、下記式(II)で定義されるRthレターデーション値が70乃至400nmの範囲にあり、遅相軸角度の面内の平均の絶対値が3°以下であり、そして、遅相軸角度の標準偏差が1.5°以下であるセルロースアシレートフイルムを製造することを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法:(I) Re=(nx-ny)×d(II) Rth={(nx+ny)/2-nz}×d[式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そして、dは、フイルムの厚さである]。
IPC (6件):
B29C 41/28 ,  B29C 41/32 ,  B29C 55/02 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
FI (6件):
B29C 41/28 ,  B29C 41/32 ,  B29C 55/02 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
Fターム (27件):
4F205AA01 ,  4F205AB07 ,  4F205AB11 ,  4F205AB14 ,  4F205AB17 ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AG03 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GB26 ,  4F205GC07 ,  4F205GE22 ,  4F205GE24 ,  4F205GW21 ,  4F210AA01 ,  4F210AB06 ,  4F210AB07 ,  4F210AB17 ,  4F210AG01 ,  4F210AG03 ,  4F210AH73 ,  4F210AR06 ,  4F210QC03 ,  4F210QG01 ,  4F210QG15 ,  4F210QG18
引用特許:
審査官引用 (13件)
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