特許
J-GLOBAL ID：200903041584277754
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 静男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-041117
公開番号（公開出願番号）：特開平7-248609
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】 単一の膜構成を有し、かつ、位相シフトを生じる所定膜厚での透過率を広範囲に設定できる位相シフトマスクブランクを提供する。【構成】 透明基板上に、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過し、かつ透過した光の位相を所定量変化させる光半透過膜を有し、この光半透過膜が、フッ素と、炭素および窒素の少なくとも1種と、クロムとを含む膜からなることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過し、かつ透過した光の位相を所定量変化させる光半透過膜を有し、この光半透過膜が、フッ素と、炭素および窒素の少なくとも1種と、クロムとを含む膜からなることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
