特許
J-GLOBAL ID：200903041631536976
使用済み基板の再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
日比 紀彦
, 岸本 瑛之助
, 渡邊 彰
, 松村 直都
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-004069
公開番号（公開出願番号）：特開2009-167023
出願日： 2008年01月11日
公開日（公表日）： 2009年07月30日
要約：
【課題】使用済み基板上に残ったカーボンナノチューブの残留物および金属酸化物を効率よく除去し得る、カーボン系薄膜合成に用いた基板の再生方法を提供する。【解決手段】本発明は、基板上に形成した金属酸化物からなる触媒粒子を核としてカーボン系薄膜を合成し、同薄膜を他材料に転写した後、基板を再生する方法であって、転写後、基板上に残留したカーボン成分を酸素雰囲気で加熱して酸化させる工程と、前記基板上に残留した前記金属酸化物を、フッ化物溶液を用いた処理により除去する工程とからなることを特徴とする使用済み基板の再生方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成した金属酸化物からなる触媒粒子を核としてカーボン系薄膜を合成し、同薄膜を他材料に転写した後、基板を再生する方法であって、転写後、基板上に残留したカーボン成分を酸素雰囲気で加熱して酸化させる工程と、前記基板上に残留した前記金属酸化物を、フッ化物溶液を用いた処理により除去する工程とからなることを特徴とする使用済み基板の再生方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
4G146AA11
, 4G146AB07
, 4G146AC03B
, 4G146AD23
, 4G146AD29
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC09
, 4G146BC23
, 4G146BC33B
, 4G146BC44
, 4G146CA20
, 4G146CB40
