特許

J-GLOBAL ID：200903041643110982

X線露光用マスク及びその製造方法

発明者： 古屋 明彦 ,  田中 正二 ,  北村 智史 ,  松尾 正
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-164218
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012526
出願日： 1996年06月25日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】X線吸収性パターンと、そのパターンを保持するX線透過性支持膜と、そのX線透過性支持膜の外周を固定する支持枠体とから成るX線露光用マスクにおいて、可視光透過率を向上させ、且つX線吸収性パターンの機械的強度の優れたX線露光用マスク及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】X線吸収性パターンと、そのパターンを保持するX線透過性支持膜と、そのX線透過性支持膜の外周を固定する支持枠体とを有するX線露光用マスクにおいて、上記X線吸収性パターンの表面に直接にアライメント光の多重反射を防止する反射防止膜が形成されたことを特徴とするX線露光用マスク及びその製造方法である。

請求項（抜粋）：

X線吸収性パターンと、そのパターンを保持するX線透過性支持膜と、そのX線透過性支持膜の外周を固定する支持枠体とから成るX線露光用マスクにおいて、上記X線吸収性パターンの表面に直接にアライメント光の多重反射を防止するための反射防止膜が形成されたことを特徴としたX線露光用マスク及びその製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (3件)

• X線露光用マスクとそれに用いるブランク及びそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273848   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開昭63-027019
  
• 特開昭63-027019