特許

J-GLOBAL ID：200903041659099288

ダイオキシン含有被処理物質の浄化方法

発明者： 伊藤 清孝 ,  西村 真人 ,  林 佑二
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 菅原 正倫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-121513
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300297
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】【課題】 ダイオキシンを含んだ被処理物質の浄化処理を簡便かつ安価に行なうことができる物質浄化処理方法と、それに用いる物質浄化装置とを提供する。【解決手段】 プラズマ発生電極1,1にプラズマ発生用電圧を印加してプラズマPを発生させ、そのプラズマP中にダイオキシンを含有した気体状の被処理物質Gを導入する。これにより、ダイオキシンを主にダイオキシン以外の有機物に転化して、被処理物質G中のダイオキシン含有量を減少させる。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生電極にプラズマ発生用電圧を印加してプラズマを発生させ、そのプラズマ中にダイオキシンを含有した気体状の被処理物質を導入して、前記ダイオキシンを主にダイオキシン以外の有機物に転化することにより、前記被処理物質中のダイオキシン含有量を減少させることを特徴とするダイオキシン含有被処理物質の浄化方法。

IPC (6件)：

B01J 19/08 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  C07B 37/06 ,  C07D319/24 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

B01J 19/08 E ,  A62D 3/00 ZAB ,  C07B 37/06 ,  C07D319/24 ,  H05H 1/46 M ,  B01D 53/36 ZAB G

Fターム (26件)：

2E191BA12 ,  2E191BD18 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048BA29Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA37Y ,  4D048BA38Y ,  4D048EA02 ,  4D048EA03 ,  4G075AA01 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA01 ,  4G075EB21 ,  4H006AA05 ,  4H006AC26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ利用の排ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-103407   出願人：株式会社タクマ
• 有害成分分解装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-109029   出願人：三菱重工業株式会社