特許

J-GLOBAL ID：200903041667518990

スラリー状微粉末供給方法及び装置

発明者： 森下 徹 ,  倉持 恵美子 ,  松ヶ谷 宏 ,  五日市 剛 ,  大澤 悟
出願人/特許権者： 株式会社ウィティコジャパン ,  有限会社マツガヤ工業 ,  株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (2件)： 大橋 勇 ,  大橋 良輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-169273
公開番号（公開出願番号）：特開2005-002446
出願日： 2003年06月13日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】HVOF溶射により諸特性に優れた高密度皮膜を得ようとする際に使用され、溶射フレームに安定して微粉末を供給することができる微粉末供給方法及び装置を提供する。【解決手段】スラリーフィード制御部10、キャリアガス制御部20及びパウダーポート30を備えるスラリー状微粉末供給装置であって、前記パウダーポート30の直前に配管され、前記スラリーフィード制御部10により送給されるスラリー状微粉末と前記キャリアガス制御部20より送給されるキャリアガスとを混合し、アトマイズする混合器40を備え、前記パウダーポート30は、前記混合器40でアトマイズされたスラリー状微粉末を霧状に噴出する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

スラリー状微粉末とキャリアガスを混合し、アトマイズした後、パウダーポートより噴出させ、溶射フレームに投入して皮膜を形成するスラリー状微粉末供給方法。

IPC (3件)：

C23C4/12 ,  B05B7/20 ,  B05D3/00

FI (3件)：

C23C4/12 ,  B05B7/20 ,  B05D3/00 B

Fターム (46件)：

4D075AA02 ,  4D075AA18 ,  4D075AA73 ,  4D075BB83Y ,  4D075CA02 ,  4D075CA06 ,  4D075CA22 ,  4D075CA23 ,  4D075CA38 ,  4D075CA44 ,  4D075CA45 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB11 ,  4D075EA02 ,  4D075EA10 ,  4D075EB01 ,  4D075EB05 ,  4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F033QB05 ,  4F033QB09X ,  4F033QB12Y ,  4F033QB14X ,  4F033QB20 ,  4F033QD04 ,  4F033QD14 ,  4F033QE05 ,  4F033QE21 ,  4F033QG11 ,  4F033QG14 ,  4F033QG20 ,  4K031CB14 ,  4K031CB18 ,  4K031CB21 ,  4K031CB31 ,  4K031CB35 ,  4K031CB37 ,  4K031CB39 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031CB45 ,  4K031DA01 ,  4K031EA07 ,  4K031EA10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-149358
  
• 特開平2-301547
  
• 金属精錬炉出鋼口曲面壁の溶射補修方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-273742   出願人：黒崎播磨株式会社, 住友金属工業株式会社
• 特開昭49-087537