特許
J-GLOBAL ID：200903041681136510
スキャトロメトリを用いてオーバレイ誤差を検出するための装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-502820
公開番号（公開出願番号）：特表2009-532862
出願日： 2007年03月08日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：
【解決手段】本発明の実施形態は、基板の層の間のアライメントを決定する際に利用されるスキャトロメトリターゲットを含む。ターゲット配列が、基板上に形成されており、複数のターゲットセルを備えている。各セルは、周期的なフィーチャを含む2つの層を有しており、それらの層は、上側の層が下側の層よりも上に配列されるよう構成され、上側の層の周期的なフィーチャは、下側の層の周期的なフィーチャに対するオフセット、および/または、下側の層の周期的なフィーチャと異なるピッチを有するよう構成されている。それらのピッチは、ターゲットが照明源にさらされた時に周期信号を生成するよう配列されている。ターゲットは、さらに、セルの間に配列された曖昧性除去用フィーチャを備えており、曖昧性除去用フィーチャは、照明源にさらされた時にセルによって生成される周期信号により引き起こされる曖昧性を解決するよう構成されている。【選択図】図2(g)
請求項（抜粋）：
基板上のオーバレイアライメントを決定するためのターゲット配列であって、
少なくとも2つの層を上に形成された基板と、
前記基板上に形成されたターゲット配列と、
を備え、
前記ターゲット配列は、複数の周期的なターゲットセルを備え、各セルは、最下層よりも上に配置された最上層を有するよう構成されており、前記最上層は、周期的なフィーチャを有し、前記最下層は、周期的なフィーチャを有し、前記セルの前記最上層の前記周期的なフィーチャと前記最下層の前記周期的なフィーチャとの間に、所定のオフセットが存在する、
ターゲット配列。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 525W
, H01L21/66 Y
, H01L21/30 523
, H01L21/30 522
4M106AA01
, 4M106AA07
, 4M106AB15
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106CA50
, 5F046EA03
, 5F046EA07
, 5F046EA09
, 5F046FC04
, 5F046FC06
