特許
J-GLOBAL ID：200903018415999366
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-202636
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032956
出願日： 2005年07月12日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】リソグラフィ装置において、計測ターゲットのパフォーマンスを最適化すること。【解決手段】放射線ビームを提供する照明システムと、照明システムからの放射線ビームの断面に製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンを付与する製品パターン化デバイスを支持する支持構造と、放射線ビームの断面に、計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンを付与する計測ターゲット・パターン化デバイスとを有するリソグラフィ装置が提供される。製品パターン化デバイスと計測ターゲット・パターン化デバイスは分離されている。投影システムが、基板テーブルに保持された基板上のターゲット部分に、製品パターン化デバイスおよび計測ターゲット・パターン化デバイスによってパターン化された放射線を投射する。計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラが、製品パターンとは別個に計測ターゲット・パターンを調整する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射線ビームを提供する照明システムと、
前記放射線ビームを、製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンでパターン化する製品パターン化デバイスと、
前記放射線ビームを、少なくとも1つの計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンでパターン化する計測ターゲット・パターン化デバイスと、
前記計測ターゲット・パターンを、前記製品パターンとは別個に調整する計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラと、
前記製品パターン化デバイスおよび前記計測ターゲット・パターン化デバイスを、それらが互いに分離されるように支持する支持構造と、
前記製品パターン化デバイスおよび前記計測ターゲット・パターン化デバイスによってパターン化された前記放射線を基板のターゲット部分に投射する投影システムと
を有するリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 502M
, G03F9/00 H
, H01L21/30 531J
5F046BA03
, 5F046BA07
, 5F046EA30
, 5F046FC04
審査官引用 (7件)
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特開平2-278812
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特開平2-278812
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特開平4-048713
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