特許

J-GLOBAL ID：200903041684134020

極端紫外線光源装置

発明者： 阿部 保
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所 ,  ギガフォトン株式会社
代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-041514
公開番号（公開出願番号）：特開2006-228998
出願日： 2005年02月18日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

【課題】 LPP型極端紫外光源装置において、中空円筒に近い形状を有するターゲットジェットを安定して形成する。 【解決手段】 極端紫外光の生成が行われるチャンバと、開口からターゲット物質をチャンバ内に噴射することにより、ターゲット物質の噴流を形成するために用いられるノズルであって、該ノズル内を通過するターゲット物質の進行方向に対して垂直な断面における形状が弧状である開口5aが形成されたノズル5と、チャンバ内においてターゲット物質の噴流を照射するためのレーザ光を発生する少なくとも1つのレーザ光源と、該レーザ光源から出射したレーザ光を、チャンバ内の所定の位置に導く少なくとも1つの集光レンズとを含む。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

極端紫外光の生成が行われるチャンバと、 開口からターゲット物質を前記チャンバ内に噴射することにより、ターゲット物質の噴流を形成するために用いられるノズルであって、前記ノズル内を通過するターゲット物質の進行方向に対して垂直な断面における形状が弧状である開口が形成された前記ノズルと、 前記チャンバ内において前記ターゲット物質の噴流を照射するためのレーザ光を発生する少なくとも1つのレーザ光源と、 前記レーザ光源から出射したレーザ光を、前記チャンバ内の所定の位置に導く少なくとも1つの集光光学系と、 を具備する極端紫外光源装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G21K 5/08 ,  H05G 2/00

FI (4件)：

H01L21/30 531S ,  G03F7/20 503 ,  G21K5/08 X ,  H05G1/00 K

Fターム (5件)：

2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許出願公開第US2003/0223543A1号明細書(第3頁)
  
• レーザプラズマ発生方法およびその構造
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-109587   出願人：望月孝晏