研磨布ドレッシング装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-128676
公開番号（公開出願番号）：特開平10-315118
出願日： 1997年05月19日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】この発明は、半導体ウエハの平坦化工程で用いられ、特に研磨布断面形状が観察できる研磨布のドレッシング装置を提供することを課題とする。【解決手段】研磨布の設定される定盤11は定速で回転され、この定盤11の表面には円板状のドレッサ12が対設され、このドレッサ12の定盤11との接触面には、ダイヤモンド粒子を電着した研磨材層パターンが形成されている。ドレッサ12は、回転軸14によって支持され、この回転軸14は自動調芯の軸受け機構15によってドレッサ12と連結され、ドレッサ12は定盤11の研磨面の断面形状に合わせて変位される。このドレッサ12の変位は変位センサ16a 〜16c で検出され、ドレッサ12の接触する研磨布の断面形状が観察され、フィードバック制御される。このため、研磨布の研磨面の断面形状が平坦化して研磨され、被研磨物である半導体ウエハの面との間の均一性が得られる。

請求項（抜粋）：

研磨布を回転駆動する手段と、前記研磨布との接触する面に研磨材のプレートが設定され、研磨布に接触して回転駆動されるドレッサと、前記研磨布との接触面が変位自在とされるようにドレッサを自動調芯で支持するドレッサ支持手段と、前記ドレッサを前記研磨布の回転軸に交差する方向に揺動させるドレッサ揺動手段と、このドレッサの面に対応して設定され、前記研磨布の研磨面に対する傾きを検出する変位検出手段とを具備し、この変位検出手段によって前記研磨布の研磨面の断面形状が観察されるようにしたことを特徴とする研磨布ドレッシング装置。

IPC (3件)：

B24B 37/00 , B24B 53/00 , H01L 21/304 321

FI (3件)：

B24B 37/00 A , B24B 53/00 J , H01L 21/304 321 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

ウェーハ研磨パッドのツルーイング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-052275 出願人：三菱マテリアル株式会社
研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-216620 出願人：新日本製鐵株式会社
ラツプ盤
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-223472 出願人：浜井産業株式会社

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