角度および距離を測定するための動的ビーム・ステアリング・アセンブリを有する干渉計システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-615558
公開番号（公開出願番号）：特表2003-527564
出願日： 2000年05月05日
公開日（公表日）： 2003年09月16日
要約：

【要約】本発明の特徴は、測定対象の角度方位の変化を測定する干渉計システムであり、少なくとも1つの動的ビーム・ステアリング・アセンブリを含む。動的ビーム・ステアリング・アセンブリは、測定対象の角度方位の変化に応じて干渉計システムで1つまたはそれ以上のビームの方位を変える。多くの実施形態の場合、動的ビーム・ステアリング・アセンブリを使用することにより、干渉計システムは、測定対象を照射する一本の測定ビームだけで、測定対象の角度方位を測定することができる。さらに、多くの実施形態の場合、測定対象を照射する測定ビームからの制御信号により、ビーム・ステアリング・アセンブリは、垂直方向に測定対象を照射するように、測定ビームの方向を変えることができる。上記のように垂直方向に照射した場合には、干渉計システムは、測定ビームからの1つまたはそれ以上の干渉計信号に基づいて、またはビーム・ステアリング・アセンブリ自身の方向に基づいて測定対象の角度方位を計算することができる。

請求項（抜粋）：

干渉計システムであって、動作中、測定対象を照射している測定路に沿って測定ビームをある方向に向け、出口ビームの少なくとも2つの重畳している組を形成するために、前記測定ビームの少なくとも2つの各部分を対応する基準ビームと結合するためのものであって、前記測定ビームを前記測定対象、前記ビーム・ステアリング素子を照射する前記測定ビームを前記測定対象の方に向けるように位置しているビーム・ステアリング素子と前記ビーム・ステアリング素子をある方向に向けるための位置決めシステムを有するビーム・ステアリング・アセンブリを備える干渉計と、動作中、前記位置決めシステムに、前記測定対象の角度方位の変化に応じて前記ビーム・ステアリング素子の向きを変えさせる制御回路と、動作中、出口ビームの前記重畳している組からの干渉計信号および前記ビーム・ステアリング素子の方位の中の少なくとも1つに基づいて前記測定対象の角度方位の変化を計算する角度測定システムとを備える干渉計システム。

IPC (6件)：

G01B 11/26 , G01B 9/02 , G01B 11/00 , G03F 1/08 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 11/26 G , G01B 9/02 , G01B 11/00 G , G03F 1/08 A , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 B

Fターム (55件)：

2F064AA01 , 2F064AA06 , 2F064BB01 , 2F064DD01 , 2F064DD06 , 2F064DD08 , 2F064FF06 , 2F064GG11 , 2F064GG16 , 2F064GG22 , 2F064GG23 , 2F064GG38 , 2F064GG39 , 2F064GG51 , 2F064GG68 , 2F064GG69 , 2F064GG70 , 2F064JJ01 , 2F064JJ05 , 2F064JJ15 , 2F065AA01 , 2F065AA06 , 2F065AA31 , 2F065CC00 , 2F065EE00 , 2F065FF51 , 2F065FF65 , 2F065GG04 , 2F065GG23 , 2F065HH04 , 2F065HH08 , 2F065HH14 , 2F065LL13 , 2F065LL17 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065LL46 , 2F065LL53 , 2F065LL55 , 2F065LL57 , 2F065NN06 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065QQ03 , 2F065QQ13 , 2F065QQ14 , 2F065QQ16 , 2F065QQ17 , 2H095BA01 , 2H095BB01 , 2H095BB07 , 2H095BB34 , 5F046CC03 , 5F046CC16

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平3-053102
特許第4401574号
回転面の測定方法及び測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-065605 出願人：株式会社リコー

審査官引用 (2件)

特開平3-053102
特許第4401574号

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