特許
J-GLOBAL ID:200903041751573042

反射防止材料

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-221318
公開番号(公開出願番号):特開2001-048590
出願日: 1999年08月04日
公開日(公表日): 2001年02月20日
要約:
【要約】【課題】 反射防止材料において、反射防止性を損なうことなく、表面にごみや指紋等が付着しにくく、また付着しても容易に拭き取ることができ、かつ、かかる防汚効果の耐久性に優れた防汚層が設けられた反射防止材料を提供する。【解決手段】 透明基体上に低屈折率層および防汚層を順次積層した反射防止材料において、該低屈折率層はゾルゲル法により形成されるシリカ膜であり、かつ、該防汚層は少なくともパーフルオロアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とする反射防止材料。
請求項(抜粋):
透明基体上に、少なくとも低屈折率層および防汚層を順次積層した反射防止材料であって、該低屈折率層はゾルゲル法により形成されるシリカ膜であり、かつ、該防汚層は少なくともパーフルオロアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とする反射防止材料。
IPC (7件):
C03C 17/28 ,  C03C 17/30 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  G09F 9/00 313 ,  B32B 7/02 103 ,  C09K 3/00 112
FI (7件):
C03C 17/28 A ,  C03C 17/30 B ,  G09F 9/00 313 ,  B32B 7/02 103 ,  C09K 3/00 112 E ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
Fターム (44件):
2K009AA03 ,  2K009BB24 ,  2K009CC09 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  2K009EE05 ,  4F100AA20B ,  4F100AH05H ,  4F100AJ06 ,  4F100AS00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ082 ,  4F100GB41 ,  4F100JL06 ,  4F100JL06C ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18 ,  4F100JN18B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00H ,  4G059AA01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC22 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA16 ,  5G435AA00 ,  5G435AA01 ,  5G435AA14 ,  5G435HH02 ,  5G435HH03 ,  5G435KK07
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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