特許
J-GLOBAL ID：200903041752516662
分子の反応特性予測方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-067212
公開番号（公開出願番号）：特開2000-143554
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：
【要約】【課題】 母核を共通にする制限を受けることなく種々の分子の間で反応特性の類比の有無を高い精度で予測可能な分子の反応特性予測方法を提供する。【解決手段】 分子の空間的大きさを反映するように分子包囲面(20)を設定し、分子包囲面で囲われた分子包囲空間を分子の反応特性を特徴づける複数の構成要素空間(22)に分割し、分子包囲面上にあるフロンティア包囲面(5)上にプローブ点を設け、各々の構成要素空間毎に空間占有度を求め、フロンティア包囲面上の各々のプローブ点毎に静電エネルギーを求めフロンティア包囲面上の和を構成要素空間の静電的因子として求め、各々のプローブ点毎にファンデルワールズエネルギーを求めフロンティア包囲面上の和を構成要素空間の立体的因子として求め、空間占有度と静電的因子と立体的因子とを相当する構成要素空間の反応特性値とし、各々の構成要素空間毎の前記反応特性値を指針として分子の反応特性を予測する。
請求項（抜粋）：
分子の反応特性を予測する分子の反応特性予測方法であって、分子の空間的大きさを反映するように分子包囲面を設定し、前記分子包囲面で囲われた空間を分子包囲空間とし、所定の空間分割手順に従って、前記分子包囲空間を分子の反応特性を特徴づける複数の構成要素空間に分割し、前記構成要素空間を囲う輪郭面を構成要素包囲面とし、各々の前記構成要素包囲面のうち前記分子包囲面上にある部分を各々の前記構成要素空間のフロンティア包囲面とし、各々の前記構成要素空間の前記フロンティア包囲面上に所定均等間隔毎にプローブ点を設け、各々の前記構成要素空間毎に、前記分子包囲空間を占有する度合いを各々の前記構成要素空間の空間占有度として求め、各々の前記構成要素空間の前記フロンティア包囲面上の各々の前記プローブ点毎に、前記プローブ点に設定した単位電荷と前記分子を構成する全ての原子の電荷との間の静電エネルギーを求め、前記静電エネルギーの相当する前記構成要素空間の前記フロンティア包囲面上の和を相当する前記構成要素空間の静電的因子として求め、各々の前記構成要素空間の前記フロンティア包囲面上の各々の前記プローブ点毎に、前記プローブ点に設定した所定の立体特性を有するプローブ原子と前記分子を構成する全ての原子との間のファンデルワールズエネルギーを求め、前記ファンデルワールズエネルギーの相当する前記構成要素空間の前記フロンティア包囲面上の和を相当する前記構成要素空間の立体的因子として求め、前記空間占有度と前記静電的因子と前記立体的因子とを相当する前記構成要素空間の反応特性値とし、各々の前記構成要素空間毎の前記反応特性値を指針として分子の反応特性を予測することを特徴とする分子の反応特性予測方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C07B 61/00 Z
, G06F 15/42 M
4H006AA05
, 4H006AC11
, 4H006AC22
, 4H006AC90
