特許
J-GLOBAL ID:200903041769853140

X線反射率測定装置及び測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横川 邦明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-128166
公開番号(公開出願番号):特開平7-311163
出願日: 1994年05月18日
公開日(公表日): 1995年11月28日
要約:
【要約】【目的】 X線反射率測定にいおいて、大口径試料に関して解析精度の高い測定をできるようにする。また、試料の自動供給及び自動排出に対して好都合な構造を提供する。【構成】 X線源Pから出たX線ビームをモノクロメータ6で単色化して試料8に照射し、そこで全反射するX線を受光スリット24を通してX線カウンタ25でカウントする。X線照射ユニットを第1アーム28で支持し、検出器ユニットを第2アーム35で支持し、各アームを昇降装置40,41によってタンジェントバー方式で独自に同期してθ回転させ、相対的にX線カウンタ25を入射X線ビームに対して2θ回転させる。試料8を水平に支持する試料支持装置3は、1個のユニットとしてX線光学系と別個にベース1上に設置される。
請求項(抜粋):
X線を低角度で試料に入射し、試料で反射したX線を検出するX線反射率測定装置において、試料表面が試料軸線を含むように試料を水平状態に支持する試料支持手段と、試料軸線を中心として回転移動可能な第1アームと、第1アームに支持されていて、試料に特性X線を照射するX線照射ユニットと、試料軸線を中心として回転移動可能であって、X線検出器を支持する第2アームと、第1アーム及び第2アームを互いに同期して回転移動させるバー回転駆動機構とを有することを特徴とするX線反射率測定装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-121649
  • 特開平4-175645
  • X線試料表面状態評価装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-266115   出願人:日本電子株式会社, 日本エツクス線株式会社
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