特許
J-GLOBAL ID：200903041784443420

カルボニル化合物の製造方法

発明者：
林 謙一

林 謙一 について

, 
佐藤 大祐

佐藤 大祐 について

, 
井上 勉

井上 勉 について


出願人/特許権者：
日本曹達株式会社

日本曹達株式会社 について


代理人 (1件)： 大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-068860
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265409
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：
【要約】【課題】操作性及び製造コスト的に有利で、しかも一般性の高いカルボニル化合物の製造方法を提供する。【解決手段】一般式(II)で表わされる化合物に、非水混和性有機溶媒と水からなる2相系混合溶媒中、相間移動触媒存在下に、酸化剤を水相を弱アルカリ性として作用させることを特徴とする一般式(I)で表わされるカルボニル化合物の製造方法。【化1】(式中、R1及びR2は、同一又は相異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリ-ル基、置換基を有していてもよいヘテロアリ-ル基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。)
請求項（抜粋）：
一般式(II)【化1】(式中、R1及びR2は、同一又は相異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。)で表わされる化合物に、非水混和性有機溶媒及び水を含む2相系混合溶媒中、相間移動触媒存在下に、水相を弱アルカリ性として酸化剤を作用させることを特徴とする一般式(I)【化2】(式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表す。)で表わされるカルボニル化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C07C 45/30 ,  C07C 49/255 ,  C07C231/12 ,  C07C233/76 ,  C07B 61/00 300
FI (5件)：
C07C 45/30 ,  C07C 49/255 A ,  C07C231/12 ,  C07C233/76 ,  C07B 61/00 300
Fターム (14件)：
4H006AA02 ,  4H006AC44 ,  4H006BA51 ,  4H006BA65 ,  4H006BB31 ,  4H006BB46 ,  4H006BC10 ,  4H006BC16 ,  4H006BE36 ,  4H006BJ50 ,  4H006BR30 ,  4H006BV72 ,  4H039CA65 ,  4H039CC20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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