特許
J-GLOBAL ID：200903041800263852
磁気ヘッド製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 正紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-183042
公開番号（公開出願番号）：特開2002-008210
出願日： 2000年06月19日
公開日（公表日）： 2002年01月11日
要約：
【要約】【課題】 再生波形の歪みの小さな磁気抵抗効果型ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法を提供する。【解決手段】 所定の第1の方向に固定された磁化を有する固定磁性層と所定の第2の方向に磁化容易軸を持つ自由磁性層とを含む多層膜である磁気抵抗効果素子にバイアス磁界を付与する硬磁性層を、上記磁気抵抗効果素子からみて、上記所定の第1の方向前方およびその第1の方向後方のうちの少なくともいずれか一方を含む領域に形成する硬磁性層形成を行う。
請求項（抜粋）：
所定の第1の方向に固定された磁化を有する固定磁性層と所定の第2の方向に磁化容易軸を持ち外部磁界に応じて方向の変化する磁化を有する自由磁性層とを含む多層膜である、該固定磁性層の磁化の方向と該自由磁性層の磁化の方向との間の角度に応じた抵抗の大きさを示す磁気抵抗効果素子を備え、該磁気抵抗効果素子の抵抗の大きさを検知することにより前記外部磁界の強さを検知する磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法において、前記磁気抵抗効果素子にバイアス磁界を付与する硬磁性層を、該磁気抵抗効果素子からみて、前記所定の第1の方向前方および該第1の方向後方のうちの少なくともいずれか一方を含む領域に形成する硬磁性層形成工程を有することを特徴とする磁気ヘッド製造方法。
Fターム (3件)：
5D034AA03
, 5D034BA02
, 5D034DA07
