特許
J-GLOBAL ID：200903041817111100

有機物除去方法および装置

発明者：
森 義明

森 義明 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357955
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176838
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】 マスクを形成することなく被処理部材の所望位置の有機物を容易に除去できるようにする。【解決手段】 有機物除去装置10は、吐出ヘッド部12がXYテーブル14に搭載してあって、被処理部材の面に沿って移動可能となっている。吐出ヘッド部12は、インクジェットプリンタのプリンタヘッドと同様に形成してあって、オゾン水などの処理液を吐出する複数の液体吐出口16が直線状または千鳥状に設けてある。吐出ヘッド部12とXYテーブル14とは、制御装置40によって制御され、被処理部材の所望の位置に処理液を吐出して塗布し、その部分の有機物を分解して除去できるようになっている。
請求項（抜粋）：
有機物を分解可能な処理液を液体吐出手段により被処理部材の所望位置に吐出し、その位置の有機物を分解することを特徴とする有機物除去方法。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  B08B 3/08
FI (3件)：
B08B 3/08 A ,  H01L 21/306 D ,  H01L 21/306 R
Fターム (14件)：
3B201AA02 ,  3B201AB53 ,  3B201BB22 ,  3B201BB44 ,  3B201BB82 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201CB01 ,  5F043AA37 ,  5F043BB25 ,  5F043DD07 ,  5F043EE07 ,  5F043EE36
引用特許：
審査官引用 (4件)
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