特許
J-GLOBAL ID：200903041820210917
光透過性電磁波シールド部材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-256549
公開番号（公開出願番号）：特開2009-088283
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】インキ転移量が不十分となるのを抑制可能とする。【解決手段】透明基材2と導電体パターン3とを具備した光透過性電磁波シールド部材1を製造するに当たり、導電体層3aの片面上にダイレクトグラビア印刷によりレジストパターン6を形成する工程と、レジストパターン6をマスクとして用いて前記導電体層3aをエッチングすることにより前記導電体パターン3を形成する工程とを備え、前記レジストパターン形成工程における前記ダイレクトグラビア印刷を、グラビア版に対してドクタリングを行う際に、レジストインキ14をグラビア版7の非画線部15に残存させてドクタリングし、ドクタリング後に非画線部15上のレジストインキ14を乾燥させ、グラビア版7から導電体層3aの一方の片面上に、未乾燥のレジストインキ14を転移させるものとした。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
透明基材とこの透明基材に支持された導電体パターンとを具備した光透過性電磁波シールド部材の製造方法であって、
連続膜とした導電体層の一方の片面上にダイレクトグラビア印刷によりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターンをマスクとして用いて前記導電体層をエッチングすることにより前記導電体パターンを形成する導電体パターン形成工程とを有し、
前記レジストパターン形成工程における前記ダイレクトグラビア印刷は、
前記グラビア版に対してドクタリングを行う際に、レジストインキをグラビア版の非画線部に残存させてドクタリングし、
ドクタリング後に前記非画線部上のレジストインキを乾燥させ、
前記グラビア版から導電体層の一方の片面上に、未乾燥のレジストインキを転移させるものである
ことを特徴とする光透過性電磁波シールド部材の製造方法。
IPC (3件)：
H05K 9/00
, B41M 1/10
, G09F 9/00
H05K9/00 V
, B41M1/10
, G09F9/00 309A
, G09F9/00 313
2H113AA04
, 2H113AA06
, 2H113BA03
, 2H113BB08
, 2H113BB26
, 2H113CA17
, 5E321AA04
, 5E321BB23
, 5E321BB41
, 5E321BB44
, 5E321GG05
, 5E321GH01
, 5G435AA17
, 5G435GG33
, 5G435KK07
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (3件)
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