真空ア-ク蒸発源及び真空ア-ク蒸着装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安田敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-008045
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204466
出願日： 1999年01月14日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：

【要約】【課題】磁場によって基板に到達する溶融粒子の数を減少させることができると共に、アークスポットの発生の偏りを減少させることができる蒸発源及び真空アーク蒸着装置を提供することを目的とする。【解決手段】アーク放電の陰極となる蒸発物質と、当該蒸発物質の蒸発面と略垂直に交差する磁力線のみを発生するように前記蒸発物質を取り囲む磁場発生源と、を備えている。

請求項（抜粋）：

アーク放電の陰極となる蒸発物質と、当該蒸発物質の蒸発面と略垂直に交差する磁力線のみを発生するように前記蒸発物質を取り囲む磁場発生源と、を備えていることを特徴とする真空アーク蒸発源。

Fターム (4件)：

4K029CA01 , 4K029DB01 , 4K029DB11 , 4K029DB17

引用特許：

審査官引用 (5件)

アーク式蒸発源
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-207277 出願人：日新電機株式会社
特開平3-154586
特開平2-183499

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