特許

J-GLOBAL ID：200903041852241008

基板支持装置

発明者： 淵山 正毅 ,  松原 和哉 ,  清田 典靖 ,  坂本 博美
出願人/特許権者： 株式会社東京カソード研究所
代理人 (2件)： 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-359598
公開番号（公開出願番号）：特開2006-173172
出願日： 2004年12月13日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】気体圧を用いて基板を浮上支持する基板支持装置において、基板の浮上量のばらつきを抑制することである。【解決手段】基板支持装置のステージは、入口精密浮上領域28-前方粗浮上領域24-中央精密浮上領域22-後方粗浮上領域26-出口精密浮上領域30の順に配置される。各精密浮上領域22,28,30には、複数の多孔質円板34が配列され、精密に制御された基板浮上用の加圧気体が供給される。各粗浮上領域の長さをA、各精密浮上領域の長さをB、基板の長さをLとして、A+Bは略Lに等しい長さとし、各精密浮上領域が有する各多孔質円板34の全数をNとし、基板が各精密浮上領域から浮上力を受ける各多孔質円板34の合計数をnとして、基板がステージの上を移動する全期間において、n/Nを一定となるように、各長さを定める。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板を加圧気体によりステージ上から浮上させて支持し、基板移動機構により基板をステージの面に沿って移動させる基板支持装置であって、 ステージは、 基板とステージ上面との間に加圧気体を供給して基板をステージ側から浮上させる複数の加圧浮上部と、 浮上した基板を減圧により吸引してステージ側に沈める複数の減圧吸引部と、 を有し、基板の移動方向の中央部に配置される中央精密浮上領域と、 基板の移動方向において、中央精密浮上領域の前後に設けられ、基板を浮上させる加圧浮上部のみが配置される前方粗浮上領域及び後方粗浮上領域と、 基板の移動及び浮上を制御する制御部と、 を備えることを特徴とする基板支持装置。

IPC (1件)：

H01L 21/683

FI (1件)：

H01L21/68 N

Fターム (10件)：

5F031CA05 ,  5F031HA24 ,  5F031HA80 ,  5F031JA02 ,  5F031JA21 ,  5F031KA01 ,  5F031LA07 ,  5F031LA15 ,  5F031MA33 ,  5F031PA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 液晶パネル用スペーサ分布検査機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-138633   出願人：株式会社東京カソード研究所