特許
J-GLOBAL ID：200903041877602838

ポリシリコン膜の形成方法

発明者：
今尾 和博

今尾 和博 について

, 
瀬川 泰生

瀬川 泰生 について

, 
脇田 賢

脇田 賢 について


出願人/特許権者：
三洋エプソンイメージングデバイス株式会社

三洋エプソンイメージングデバイス株式会社 について


代理人 (2件)： 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-181252
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005412
出願日： 2005年06月21日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】レーザ照射によってポリシリコン膜を形成するときに凝集が発生することを防止する。【解決手段】レーザ光源からのレーザは、ハーフミラー102,反射ミラー104,ハーフミラー106を介し、ビーム整形用モジュール108に供給される。また、ハーフミラー102で反射されたレーザは、調整フィルタ110、光学的遅延モジュール112,反射ミラー114,ハーフミラー106を介し、ビーム整形用モジュール108に供給される。調整フィルタ110、光学的遅延モジュール112によって、ハーフミラー106で反射されたレーザの振幅、遅延を制御することで、ビーム整形用モジュール108に供給するレーザにおいて、複数の強度のそろったピークが得られる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上にアモルファスシリコン膜を形成する工程と、 このアモルファスシリコン膜にレーザを照射して、ポリシリコン膜を形成する工程と、 を含み、 前記ポリシリコン膜を形成する工程では、 レーザ光源からのレーザを複数の異なる光路長の経路に分岐し、その後分岐した複数の経路からのレーザを合成して時間的にずれた複数のピークを有するレーザをアモルファスシリコン膜に照射するとともに、少なくとも一方の経路にはその経路のレーザの振幅を調整する調整フィルタを配置し、そこを通過するレーザのピーク振幅を調整して、他経路のレーザとのピーク振幅をそろえ、 振幅がそろえられた複数のピークを有するレーザをアモルファスシリコン膜に照射することを特徴とするポリシリコン膜の形成方法。
IPC (1件)：
H01L 21/20
FI (1件)：
H01L21/20
Fターム (13件)：
5F152AA06 ,  5F152AA08 ,  5F152BB02 ,  5F152CE05 ,  5F152EE01 ,  5F152EE03 ,  5F152EE04 ,  5F152FF03 ,  5F152FF33 ,  5F152FG03 ,  5F152FG19 ,  5F152FG23 ,  5F152FH01
引用特許：
出願人引用 (2件)

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