特許

J-GLOBAL ID：200903041880850818

表面処理方法、表面処理基板、膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器

発明者： 平井 利充 ,  長谷井 宏宣
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-063366
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006700
出願日： 2003年03月10日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】インクジェット法による膜パターンの形成を改善するため、所望の親液性を均一に有する基板を得るための表面処理方法、この表面処理によって得られた表面処理基板、及び膜パターンの形成方法等を提供する。【解決手段】基板表面に、有機分子からなる自己組織化膜を形成する撥液化処理を行う。その後、紫外光の照射等により、撥液性を緩和し、所望の撥液性とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板の表面に撥液化処理を施し、その後に親液化処理を施すことを特徴とする表面処理方法。

IPC (4件)：

H01L21/288 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3205 ,  H01L29/786

FI (4件)：

H01L21/288 Z ,  H01L21/28 A ,  H01L21/88 B ,  H01L29/78 612C

Fターム (62件)：

4M104AA10 ,  4M104BB01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD22 ,  4M104DD28 ,  4M104DD51 ,  5F033GG00 ,  5F033GG03 ,  5F033GG04 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH31 ,  5F033HH38 ,  5F033HH40 ,  5F033MM01 ,  5F033MM05 ,  5F033MM15 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ54 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ82 ,  5F033QQ83 ,  5F033QQ89 ,  5F033RR11 ,  5F033RR22 ,  5F033SS00 ,  5F033SS15 ,  5F033SS22 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX00 ,  5F033XX31 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD12 ,  5F110DD25 ,  5F110EE02 ,  5F110EE42 ,  5F110GG01 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG32 ,  5F110GG42 ,  5F110GG58 ,  5F110PP03 ,  5F110PP13 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• カラーフィルタの製造方法、該方法により得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを配して構成した液晶表示パネル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-322401   出願人：キヤノン株式会社
• 微細構造体の製造方法、微細構造体、及びこれを形成するための基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-099968   出願人：セイコーエプソン株式会社
• プリント基板、電子放出素子、電子源、および画像形成装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-090621   出願人：キヤノン株式会社
• パターン形成方法および基板製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-008016   出願人：セイコーエプソン株式会社