微細構造体の製造方法、微細構造体、及びこれを形成するための基板

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲葉良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-099968
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288578
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【目的】レジストやバンクに基づかない薄膜の形成であり、インクジェット吐出技術と組み合わせた新規な薄膜パターニング技術を提供する。【解決手段】基板表面11に有機分子膜パターンを形成し、有機分子膜パターンに対して、インク吐出法により薄膜を形成するための溶液を供給し有機分子膜パターン基づいて金属薄膜パターン(12,13a,13b)を得る。

請求項（抜粋）：

基板表面に有機分子膜パターンを形成し、該有機分子膜パターンに対して、インク吐出法により薄膜を形成するための溶液を供給し該有機分子膜パターン基づいて薄膜パターンを得る微細構造体の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 18/18 , B41J 2/01 , C23C 18/31 , G02F 1/1335 505

FI (4件)：

C23C 18/18 , C23C 18/31 A , G02F 1/1335 505 , B41J 3/04 101 Z

Fターム (29件)：

2C056EA24 , 2C056EC07 , 2C056EC28 , 2C056FB01 , 2C056FB05 , 2C056FD20 , 2H091FA03Y , 2H091FA35Y , 2H091FB02 , 2H091FB08 , 2H091FC01 , 2H091FC10 , 2H091FC27 , 2H091GA02 , 2H091LA15 , 4K022AA02 , 4K022AA03 , 4K022AA05 , 4K022AA13 , 4K022AA41 , 4K022BA03 , 4K022BA14 , 4K022BA35 , 4K022CA07 , 4K022CA08 , 4K022CA25 , 4K022DA01 , 4K022DB02 , 4K022DB19

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭60-039165
特開平1-165776
パターン形成方法および基板製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-008016 出願人：セイコーエプソン株式会社

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