レーザ描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松浦孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-044749
公開番号（公開出願番号）：特開平10-227988
出願日： 1997年02月13日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて所望のパターンを描画するレーザ描画装置であって、レーザビームの副走査方向の走査位置のずれが生じても、個々の被描画体に対する描画パターンの副走査方向の高精度の位置決めが可能となったレーザ描画装置を提供する。【解決手段】レーザ描画装置は被描画体を搭載保持するようになった描画テーブルと、これを副走査方向に駆動させるための副走査駆動制御手段と、描画テーブルが副走査駆動制御機構によって原点位置に位置決めされたとき、レーザビームの副走査方向の走査位置のずれ量を検出するレーザビーム位置ずれ量検出手段と、これによって検出されたずれ量に基づいて副走査方向の描画開始位置を演算する演算手段とを具備して成る。

請求項（抜粋）：

被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて所望のパターンを描画するレーザ描画装置であって、前記被描画体を搭載保持するようになった描画テーブルと、前記描画テーブルを副走査方向に駆動させるための副走査駆動制御手段と、前記描画テーブルが前記副走査駆動制御機構によって原点位置に位置決めされたとき、前記レーザビームの副走査方向の走査位置のずれ量を検出するレーザビーム位置ずれ量検出手段と、前記レーザビームずれ量検出手段によって検出されたずれ量に基づいて副走査方向の描画開始位置を演算する演算手段とを具備して成るレーザ描画装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , G03F 7/20 505 , H04N 1/113

FI (4件)：

G02B 26/10 Z , G03F 7/20 505 , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

パターン走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-301106 出願人：株式会社ニコン

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