特許
J-GLOBAL ID:200903041888455110

渦電流センサ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-134657
公開番号(公開出願番号):特開2003-106805
出願日: 2002年05月09日
公開日(公表日): 2003年04月09日
要約:
【要約】【課題】 例えば半導体基板上に形成されるごく薄い導電性膜から比較的厚い導電性膜まで正確に膜厚等の検出を行うことができる渦電流センサを提供する。【解決手段】 導電性膜の近傍に配置されるセンサコイルと、センサコイルに交流信号を供給して導電性膜に渦電流を形成する信号源と、導電性膜に形成された渦電流をセンサコイルにより検出する検出回路とを備えた。
請求項(抜粋):
導電性膜または導電性膜が形成される基体の近傍に配置されるセンサコイルと、該センサコイルに交流信号を供給して前記導電性膜に渦電流を形成する信号源と、前記導電性膜に形成された渦電流を前記センサコイルにより検出する検出回路とを備えたことを特徴とする渦電流センサ。
IPC (5件):
G01B 7/06 ,  B24B 37/04 ,  B24B 49/02 ,  H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 622
FI (5件):
B24B 37/04 K ,  B24B 49/02 Z ,  H01L 21/304 621 B ,  H01L 21/304 622 S ,  G01B 7/10 Z
Fターム (18件):
2F063AA16 ,  2F063BA26 ,  2F063BC09 ,  2F063CA10 ,  2F063DA01 ,  2F063DA05 ,  2F063DB03 ,  2F063GA08 ,  2F063KA01 ,  3C034AA19 ,  3C034BB91 ,  3C034CA02 ,  3C034CB01 ,  3C034DD10 ,  3C058AA07 ,  3C058AC02 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • フィルム厚の変化のその場での監視方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-087858   出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • 特開昭55-043420
  • 特開昭61-151402
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審査官引用 (7件)
  • フィルム厚の変化のその場での監視方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-087858   出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • 特開昭55-043420
  • 特開昭61-151402
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