レーザ光発生装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-093562
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286483
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】レーザ光源の発熱部において発生した熱を効率よく放熱しレーザ光源の冷却を行って、長期にわたって安定した利用を可能とする。【解決手段】筐体15と、筐体15内に配設されレーザ光を出力するレーザ光源2と、レーザ光源2がレーザ光を出力する際に発生させる熱を放熱し、レーザ光源2の冷却を行う冷却ユニット3とを備える。冷却ユニット3は、レーザ光源2の発熱部に取り付けられて筐体15内に配設される吸熱板5及びペルチェ素子6と、筐体外に配設される放熱フィン8と、吸熱板5及びペルチェ素子6と放熱フィン8とを繋ぐヒートパイプ9とを備えて構成される。

請求項（抜粋）：

筐体と、上記筐体内に配設されレーザ光を出力するレーザ光源と、上記レーザ光源がレーザ光を出力する際に発生させる熱を放熱し、上記レーザ光源の冷却を行う冷却ユニットとを備え、上記冷却ユニットは、上記レーザ光源の発熱部に取り付けられて筐体内に配設される吸熱板及びペルチェ素子と、上記筐体外に配設される放熱フィンと、上記ペルチェ素子と上記放熱フィンとを繋ぐヒートパイプとを備えて構成されることを特徴とするレーザ光発生装置。

Fターム (5件)：

5F072JJ05 , 5F072TT03 , 5F072TT04 , 5F072TT22 , 5F072TT28

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-179180
半導体レーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-353920 出願人：新日本製鐵株式会社
特開昭58-111385

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