特許

J-GLOBAL ID：200903042011288189

水素化炭素薄膜

発明者： リチャード・ロングスレス・ホワイト
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-012352
公開番号（公開出願番号）：特開平10-228640
出願日： 1998年01月26日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】良好な付着性および良好な耐磨耗性を有するコーティングを提供する。【解決手段】本発明の実施態様は、水素化レベルが表面で高く、基材に向かって下がるにつれて低下する、ディスク上に付される一層、二層または三層の保護用水素化炭素(C:H)薄膜コーティングである。オーバコートの種々の層または区域の水素含量は、C:H膜の異なる性質、たとえば、低い水素レベルで得られる良好な付着性、中間レベルの水素含量で得られる高い硬度および高い水素含量の膜で得られる低い表面エネルギーを利用するように最適化される。一つの実施態様では、ディスクは、スパッタリングにより、水素濃度が膜表面に向かって増加する勾配を有するC:H薄膜でコーティングされる。本発明の第二の実施態様は、下層の水素含量が表面層の水素含量よりも低い2枚の層を使用する。

請求項（抜粋）：

ディスク・ドライブにおける耐磨耗部品として使用するための製品であって、薄膜層を上に有しても有しなくてもよい基材と、前記基材または薄膜層の上に配置されて表面を形成する薄膜保護層と、を含み、前記薄膜保護層が炭素および水素を含有し、水素が、前記基材または薄膜層にもっとも近いところでは最低の原子%で存在し、前記表面に向かって徐々に増加し、前記表面では最高の原子%で存在することを特徴とする製品。

IPC (4件)：

G11B 5/72 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/255

FI (4件)：

G11B 5/72 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/34 S ,  G11B 5/255

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 磁気記録媒体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-136294   出願人：富士電機株式会社
• 特開平4-064920
  
• 特開平4-064920