特許
J-GLOBAL ID:200903042049495870

ワークの実装方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-256537
公開番号(公開出願番号):特開2000-091373
出願日: 1998年09月10日
公開日(公表日): 2000年03月31日
要約:
【要約】【課題】 フリップチップのバンプを基板に接着した後、フリップチップと基板の間にアンダーフィル樹脂を進入させて充てんするが、この場合、アンダーフィル樹脂に気泡が発生しやすい。そこでアンダーフィル樹脂内に気泡が発生するのを防止できるワークの実装方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板1にフリップチップ11を搭載したパッケージ10をプラズマ処理装置30のケーシング34に収納し、プラズマにより酸素ラジカルを発生させる。すると酸素ラジカルは基板1やフリップチップ11の間に侵入してその表面に接触して表面性質を改質する。圧力を上げて酸素ラジカルの密度を増加させると、酸素ラジカルは基板1とフリップチップ11の狭い間に大量に進入し、基板1の上面やフリップチップ11の下面に充分に接触してこの上面や下面を改質する。
請求項(抜粋):
第1のワーク上に第2のワークをバンプを介在させて搭載したパッケージをプラズマ処理装置のケーシングに収納し、このケーシング内にプラズマによって活性物質を発生させ、この活性物質を前記第1のワークと前記第2のワークの間に侵入させて前記第1のワークと前記第2のワークの表面に接触させた後、前記パッケージを前記ケーシングから取り出し、次いで前記第1のワーク上にアンダーフィル樹脂を塗布し、このアンダーフィル樹脂を前記第1のワークと前記第2のワークの間に進入させることを特徴とするワークの実装方法。
Fターム (4件):
4M105AA01 ,  4M105BB01 ,  4M105FF01 ,  4M105GG19
引用特許:
審査官引用 (3件)

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