層上にスポットを照射する方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：伊東忠彦 , 大貫進介 , 伊東忠重
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-561744
公開番号（公開出願番号）：特表2006-511011
出願日： 2003年11月20日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：

層を照射するために、放射ビームが層上のスポットに向けて焦点を合わせられ、レンズと関連する層の相対的動きを引き起こされ、連続的に層の異なる部分が照射され、層に最も近いレンズの表面の間の空間が維持される。更には、層上のスポットに放射が照射される際に通過する空間の少なくとも一部を液体で満たして維持され、液体は、供給管を介して供給される。少なくとも液体の部分は、放射がスポットを照射する際に通るリセスを満たす。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの光学素子によって放射ビームを層上のスポットに向けて焦点を合わせ、前記少なくとも1つの光学素子と関連する層の相対的動きを引き起こし、連続的に前記層の異なる部分が照射され、前記層に最も近い前記少なくとも1つの光学素子の表面の間の空間が維持され、前記層上の前記スポットに前記放射が照射される際に通過する前記空間の少なくとも一部を液体で満たして維持し、前記液体は、供給管を介して供給される工程を含み、少なくとも前記液体の一部が、前記放射が前記スポットを照射する際に通るリセスを満たすことを特徴とする、層の照射方法。

IPC (3件)：

G11B 7/135 , G03F 7/20 , G11B 7/26

FI (3件)：

G11B7/135 Z , G03F7/20 501 , G11B7/26 501

Fターム (14件)：

2H097AA07 , 2H097AB07 , 2H097CA17 , 2H097JA01 , 2H097LA20 , 5D121BA03 , 5D121BB01 , 5D121BB21 , 5D121BB38 , 5D789AA31 , 5D789AA32 , 5D789AA38 , 5D789BB09 , 5D789CA05

引用特許：

出願人引用 (3件)

国際公開公報WO-A-02/13194パンフレット
原盤露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-076450 出願人：日立マクセル株式会社
国際公開公報WO-99/49504パンフレット

審査官引用 (2件)

特開昭57-153433
投影露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-239562 出願人：株式会社ニコン

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