特許
J-GLOBAL ID：200903067250481384
原盤露光装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-076450
公開番号（公開出願番号）：特開平10-255319
出願日： 1997年03月12日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 微小ピット及び幅狭溝を高精度で露光することができ、しかも現像機能をも同時に備えた原盤露光装置を提供する。【解決手段】 原盤露光装置100はフォトレジスト膜20を塗布した原盤19にレーザ光を集光して照射して所望のパターンに感光する。ノズル210は露光中に集光レンズ17と原盤19との間に水を充満させる。集光レンズ17のNAが増大し、液浸レンズとして機能する。該ノズルを水タンク及び現像液タンクに配管し、供給液体を水または現像液に切り換えるバルブを備えることにより、原盤露光装置を現像装置としても機能させることもできる。
請求項（抜粋）：
フォトレジストを塗布した記録媒体製造用原盤にレーザ光を集光して照射することによりフォトレジストを所望のパターンに感光する原盤露光装置において、上記レーザ光を上記原盤表面に集光するための光学素子と、上記光学素子と上記原盤表面との間の光路に液体を介在させるための手段とを備えることを特徴とする原盤露光装置。
IPC (2件)：
G11B 7/135
, G03F 7/20 505
G11B 7/135 Z
, G03F 7/20 505
