特許
J-GLOBAL ID：200903042096379676
ダイヤモンド被覆基体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
太田 明男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-238431
公開番号（公開出願番号）：特開平8-074056
出願日： 1994年09月05日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 気相合成法を用いて、膜厚の厚いダイヤモンド皮膜を反りを生じさせることなく基体上に成膜し、密着性に優れ、成膜後の皮膜面を平坦にする研磨が容易で、かつ工具にロウ付けする際に皮膜が割れにくいダイヤモンド被覆基体、およびその製造方法を提供する。【構成】 気相合成法により基体上にダイヤモンド皮膜を形成させる際に、基体の温度を変化させ、皮膜中に圧縮応力と引張応力を選択的に交互に生じさせて圧縮応力と引張応力を相殺することにより、皮膜に反りを生じさせずに厚膜のダイヤモンド皮膜を基体上に形成させる。
請求項（抜粋）：
気相合成法により基体上にダイヤモンド皮膜を形成させる工程において、形成されるダイヤモンド皮膜内部に圧縮応力と引張応力を交互に生じさせることにより、ダイヤモンド皮膜に生じる内部応力を相殺し、ダイヤモンド被覆基体を反りの無い平坦な形状とすることを特徴とする、ダイヤモンド皮膜の製造方法。
IPC (7件)：
C23C 16/26
, B23P 15/28
, C23C 16/46
, C23C 16/50
, B23B 27/14
, C23C 16/02
, C30B 29/04
