特許
J-GLOBAL ID：200903042129330562
シリコーン樹脂それを含む組成物、ケイ酸ガラス系無機膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-054224
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258414
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】 従来より温和な条件で熱的安定性が良いケイ酸ガラス系無機膜を形成する方法を提供する。【構成】 置換基の一部がt-ブトキシル基であって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)でシリコーン樹脂を構成する。このシリコーン樹脂と、酸発生剤とを混合したシリコーン樹脂とでシリコーン樹脂組成物を構成する。この組成物の皮膜を基板上に塗布し所定の露光をし、加熱し、現像する。
請求項（抜粋）：
置換基の全てが下記に示した置換基のいずれかであるポリ(シロキサン)、或は、置換基の一部が下記に示した置換基のいずれかであって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)で構成したことを特徴とするシリコーン樹脂。第3級アルコキシル基、α-置換アリールオキシル基、α,α-2置換アリールオキシル基、無置換テトラヒドロピラニロキシル基、置換テトラヒドロピラニロキシル基、無置換テトラヒドロフラニロキシル基、置換テトラヒドロフラニロキシル基、2-アルコキシエトキシル基、2-アリールオキシエトキシル基、2-アルカノイロキシエトキシル基。
IPC (14件)：
C08G 77/14 NUG
, B05D 7/24 301
, B05D 7/24 302
, B05D 7/24
, C08K 5/00
, C08K 5/521
, C08K 5/54
, C08K 5/55
, C08L 83/04 LRT
, C09D183/04 PMS
, H01L 21/027
, H01L 21/312
, H01L 23/29
, H01L 23/31
H01L 21/30 502 R
, H01L 23/30 R
