反射防止膜材料およびこれを用いたパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-002269
公開番号（公開出願番号）：特開2008-257187
出願日： 2008年01月09日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：

【課題】反射防止膜材料であって、エッチング速度が速く、このためレジスト下層膜として用いると、エッチング中のレジストパターンの膜減りが少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。また、架橋密度が高いために熱架橋後に緻密な膜を形成でき、そのために上層レジスト膜とのミキシングを防止でき、現像後のレジストパターンが良好である反射防止膜材料を提供する。【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。【化53】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。

IPC (4件)：

G03F 7/11 , H01L 21/027 , G03F 7/40 , C08F 20/24

FI (5件)：

G03F7/11 503 , H01L21/30 574 , H01L21/30 573 , G03F7/40 521 , C08F20/24

Fターム (68件)：

2H025AA03 , 2H025AA17 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025DA34 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096CA06 , 2H096DA01 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA06 , 2H096EA07 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096HA23 , 2H096JA02 , 2H096JA04 , 4J100AB02R , 4J100AB02S , 4J100AJ03Q , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL31P , 4J100AL31Q , 4J100AL31R , 4J100AP01R , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA11Q , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BB18R , 4J100BC08P , 4J100BC43R , 4J100BC53Q , 4J100BC54Q , 4J100CA01 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA63 , 4J100JA38 , 5F046NA18 , 5F046NA19 , 5F046PA07 , 5F046PA11

引用特許：

出願人引用 (1件)

レジスト下層膜材料並びにそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-138857 出願人：信越化学工業株式会社

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