特許

J-GLOBAL ID：200903042280474916

蒸着装置

発明者： 小林 郁夫 ,  田所 豊康
出願人/特許権者： 日本精機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-390750
公開番号（公開出願番号）：特開2003-193217
出願日： 2001年12月25日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 ゲスト材料の浮遊量を良好に管理することで、蒸着源における加熱コイルと制御手段との間の良好なフィードバック制御を可能とする蒸着装置を提供する。【解決手段】 蒸着装置Aは、ホスト材料5とゲスト材料6とを真空室2内に配設し、ホスト材料5中にゲスト材料6を混合して薄膜を形成するものに関する。第1,第2の蒸着源3,4はホスト材料5及びゲスト材料6を収納する第1,第2のルツボ3a,4aを備える。第1,第2の検出手段11,12は第1,第2の蒸着源3,4からの蒸着状態を検出する。保持機構20は第1,第2の蒸着源3,4に対して透光性基板13が対向する状態にて保持するとともに、透光性基板13を回転可能とする回転機構21を備えている。遮蔽機構14は保持機構20と前記第2の蒸着源との間に配設され、ゲスト材料6の蒸着量を調整する遮蔽板15を備え、遮蔽板15を回転可能とする回転機構16を備えている。

請求項（抜粋）：

ホスト材料とゲスト材料とを真空室内に配設し、前記ホスト材料中に前記ゲスト材料を混合して薄膜を形成する蒸着装置であって、ホスト材料を収納する第1の収納部材を備えた第1の蒸着源と、ゲスト材料を収納する第2の収納部材を備えた第2の蒸着源と、前記第1の蒸着源からの前記ホスト材料の蒸着状態を検出する第1の検出手段と、前記第2の蒸着源からの前記ゲスト材料の蒸着状態を検出する第2の検出手段と、前記第1,第2の蒸着源に対して被蒸着基板が対向する状態にて保持するとともに、前記被蒸着基板を回転可能とする第1の回転機構を備えた基板保持機構と、前記基板保持機構と前記第2の蒸着源との間に配設され、前記ゲスト材料の蒸着量を調整する遮蔽板を備え、前記遮蔽板を回転可能とする第2の回転機構を備えた遮蔽機構と、を備えたことを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (5件)：

C23C 14/24 C ,  C23C 14/24 G ,  C23C 14/24 U ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (8件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BD00 ,  4K029DA12 ,  4K029DB14 ,  4K029EA01 ,  4K029JA02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-161958
  
• 真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-218171   出願人：日本真空技術株式会社