特許

J-GLOBAL ID：200903042292373627

光学素子の製造方法、投射型表示装置

発明者： 熊井 啓友 ,  澤木 大輔
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-187852
公開番号（公開出願番号）：特開2007-010712
出願日： 2005年06月28日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：

【課題】 透過率等の光学特性に優れ、偏光素子や回折格子として好適に用いることができる光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の光学素子の製造方法は、誘電体からなる基板11A上に金属層2を形成する工程と、前記金属層2に対して、放電加工により所定のドット列パターンを有する凹部15を形成する工程と、前記凹部15が形成された金属層2の表面を陰極と対向させた状態で、当該金属層2の表層の一部を陽極酸化することで、前記金属層2と、線状の溝パターン15aを有する金属酸化層2cとの積層体を形成する工程と、前記金属酸化層2cをマスクとして前記金属層2のエッチングを行い、当該金属層2に線状の溝パターン13を形成することで、前記金属層2(2a)と前記金属酸化層2cとが積層されてなる微細構造体12を形成する工程と、を具備してなることを特徴とする。【選択図】 図7

請求項（抜粋）：

誘電体からなる基板上に金属層を形成する工程と、 前記金属層に対して、放電加工により所定のドット列パターンを有する凹部を形成する凹部形成工程と、 前記凹部が形成された金属層の表面を陰極と対向させた状態で、当該金属層の表層の一部を陽極酸化することで、前記金属層と、線状の溝パターンを有する金属酸化層との積層体を形成する工程と、 前記金属酸化層をマスクとして前記金属層のエッチングを行い、当該金属層に線状の溝パターンを形成することで、前記金属層と前記金属酸化層とが積層されてなる微細構造体を形成する工程と、を具備してなることを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/30 ,  G03B 21/14 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133

FI (4件)：

G02B5/30 ,  G03B21/14 Z ,  G02F1/13 505 ,  G02F1/1335 510

Fターム (26件)：

2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H049BC22 ,  2H088EA15 ,  2H088HA13 ,  2H088HA18 ,  2H088HA20 ,  2H088HA24 ,  2H088HA28 ,  2H088MA02 ,  2H091FA05X ,  2H091FA08 ,  2H091FA10Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FB06 ,  2H091FC26 ,  2H091FD15 ,  2H091HA07 ,  2H091LA12 ,  2H091LA17 ,  2K103AB10 ,  2K103BC16 ,  2K103CA18 ,  2K103CA26

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 微細構造を有する素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-073664   出願人：三洋電機株式会社