特許

J-GLOBAL ID：200903042310178519

スパッタリングターゲット、遮光膜、カラーフィルタ及び表示素子体

発明者： 上野 崇 ,  小田 伸浩
出願人/特許権者： 株式会社フルヤ金属
代理人 (1件)： 柳瀬 睦肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329114
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206166
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】 製造時に有毒性物質が発生することなく、優れた遮光性を有し且つ反射率の低い遮光膜、それを製造するためのスパッタリングターゲット、遮光膜を用いたカラーフィルタ及び表示素子体を提供する。【解決手段】 本発明に係る遮光膜は、カラーフィルタ用のブラックマトリックス3としての遮光膜であって、Cuの酸化物を主成分とし、Agの酸化物を15重量%以上60重量%以下添加し、このCuの酸化物とAgの酸化物の複合酸化物に、Inの酸化物、Tiの酸化物、Zrの酸化物、Snの酸化物、Znの酸化物、Taの酸化物、Wの酸化物、Moの酸化物、Niの酸化物からなる群から選ばれた少なくとも1種類の酸化物を0.1重量%以上5重量%以下添加した材料からなるものである。

請求項（抜粋）：

遮光膜を製造するためのスパッタリングターゲットであって、Cuを主成分とし、Agを10重量%以上45重量%以下含有する少なくとも2元素からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (5件)：

C23C 14/34 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  G09F 9/30 313

FI (5件)：

C23C 14/34 A ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  G09F 9/30 313

Fターム (24件)：

2H042AA09 ,  2H042AA15 ,  2H042AA26 ,  2H048BA11 ,  2H048BB01 ,  2H048BB44 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA34Y ,  2H091FB08 ,  2H091FC29 ,  2H091LA09 ,  4K029AA09 ,  4K029BA08 ,  4K029BA21 ,  4K029BB02 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC08 ,  5C094AA43 ,  5C094CA24 ,  5C094ED03 ,  5C094ED15 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属材料、薄膜形成用スパッタリングターゲット材及び薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-267822   出願人：株式会社フルヤ金属

審査官引用 (1件)

• 金属材料、薄膜形成用スパッタリングターゲット材及び薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-267822   出願人：株式会社フルヤ金属