オゾン接触槽とその制御方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-108983
公開番号（公開出願番号）：特開平9-290280
出願日： 1996年04月30日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】被処理水に対するオゾンガスの吸収効率を高め、コストの低廉化がはかれる上、経時的な吸収効率低下現象が生じないオゾン接触槽とその制御方法を提供することを目的とする。【解決手段】複数段の反応室1a,1bを有する上下迂流式のオゾン接触槽1と、上記各反応室内に縦型に配置されて、オゾン発生装置7で得られたオゾンガスと被処理水20とが加圧渦流ポンプ16、流量制御弁26,26及び流量計29を介して流入して下降流として落下する第1の下方注入管21a及び第2の下方注入管21bと、オゾン接触槽1の底壁に対向する部位の各下方注入管21aと21bの先端開口部近傍に形成された管内圧力調整用の急縮部22とを備えてなることを特徴とするオゾン接触槽とその制御方法を提供する。

請求項（抜粋）：

被処理水が滞留しながら流通可能な縦型のオゾン接触槽と、該オゾン接触槽に送り込まれる被処理水の流入部に配備され、オゾン発生装置で得られたオゾンガスと被処理水とを気液混合する加圧渦流ポンプ及び被処理水の流入水量調整用の可変速器と、オゾン接触槽の上部から内部に挿入配置されて、被処理水が下降流として落下する下方注入管と、オゾン接触槽の底壁に対向する部位の下方注入管の先端開口部近傍に形成された管内圧力調整用の急縮部とを備えてなることを特徴とするオゾン接触槽。

IPC (4件)：

C02F 1/78 ZAB , B01F 1/00 , B01F 5/00 , C02F 1/24

FI (5件)：

C02F 1/78 ZAB , B01F 1/00 A , B01F 5/00 Z , C02F 1/24 A , C02F 1/24 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

Uチューブ型オゾン反応槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-071199 出願人：株式会社明電舎
特公平4-074049
特開平4-281893

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