特許
J-GLOBAL ID：200903042407789504
位相シフトフォトマスク用ブランク及び位相シフトフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-179259
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036176
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 紫外線露光光に対して透過性を有し、充分なエッチング耐性を持ち、薬液、酸等に対して充分な耐性を持つエッチングストッパー層を有し、位相シフト角の高精度制御が可能な位相シフトフォトマスク。【構成】 透明基板201上に、基板側から順に、エッチングストッパー層202と少なくとも位相シフターパターン204が積層されてなる位相シフトフォトマスクにおいて、エッチングストッパー層202が酸化ハフニウムを主体とする層によって構成されている。
請求項（抜粋）：
透明基板上に設けられた位相シフター層のドライエッチングのためのエッチングストッパー層を透明基板と位相シフター層の間に有する位相シフトフォトマスク用ブランクにおいて、前記エッチングストッパー層が酸化ハフニウムを主体とする層によって構成されていることを特徴とする位相シフトフォトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
