塩基性シリカ粉体、その製造方法及び樹脂組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：平木祐輔 , 渡辺敏章 , 関口鶴彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-329825
公開番号（公開出願番号）：特開2004-161900
出願日： 2002年11月13日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】輸送、分級、粗粒カット等の粉体操作が容易で、樹脂に混合された際に、凝集を抑制し、均一に分散され、粘度上昇が防止されるシリカ粉体及びその製造方法を提供する。又、本発明は該シリカ粉体と有機樹脂からなり、耐吸湿性、耐はんだクラック性に優れ、低膨張性の樹脂組成物を提供する。【解決手段】シリカ粉体の表面が塩基性物質で処理された塩基性シリカ粉体において、シリカ粉体1m2に対してへキサメチルジシラザン(HMDS)等の塩基性物質が0.05〜5μmole塩基当量で処理されたことを特徴とする塩基性シリカ粉体、その製造方法、及び該塩基性シリカ粉体と樹脂との組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

シリカ粉体の表面が塩基性物質で処理された塩基性シリカ粉体において、シリカ粉体1m2に対して塩基性物質が0.05〜5μmole塩基当量で処理されたことを特徴とする塩基性シリカ粉体。

IPC (9件)：

C09C1/28 , C08G59/62 , C08K9/00 , C08L63/00 , C08L101/00 , C09C3/08 , C09C3/12 , H01L23/29 , H01L23/31

FI (8件)：

C09C1/28 , C08G59/62 , C08K9/00 , C08L63/00 C , C08L101/00 , C09C3/08 , C09C3/12 , H01L23/30 R

Fターム (50件)：

4J002BC061 , 4J002BD121 , 4J002BN071 , 4J002BN151 , 4J002CC111 , 4J002CC181 , 4J002CC211 , 4J002CD011 , 4J002CD021 , 4J002CD041 , 4J002CD051 , 4J002CD141 , 4J002CF051 , 4J002CF071 , 4J002CF161 , 4J002CF211 , 4J002CG001 , 4J002CM041 , 4J002CN011 , 4J002CN031 , 4J002CP031 , 4J002DJ016 , 4J002EX037 , 4J002EX067 , 4J002EX077 , 4J002EX087 , 4J002FB076 , 4J002FB146 , 4J002GQ05 , 4J036AB07 , 4J036AB16 , 4J036AC02 , 4J036AC03 , 4J036AC18 , 4J036AD08 , 4J036AK04 , 4J036DC41 , 4J036DC46 , 4J036DD07 , 4J036FA05 , 4J036FA13 , 4J036FB08 , 4J036JA07 , 4J037AA18 , 4J037CB15 , 4J037CB23 , 4J037DD05 , 4M109AA01 , 4M109EB13 , 4M109EB17

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-001758
疎水性シリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-065967 出願人：株式会社トクヤマ
室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-396328 出願人：ジーイー東芝シリコーン株式会社

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