光電陰極の高開口数照光を用いた電子ビームコラム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-514453
公開番号（公開出願番号）：特表2003-506828
出願日： 2000年07月28日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：

【要約】レーザービーム源と電子ビームコラム(190)とを含むリソグラフィ装置であって、電子ビームコラムは、屈折率nを有する支持体(一実施例において、コラム・ハウジングのウィンドウ(401))を有する。支持体は、その遠隔面に配置されている光電陰極源材料を有し、幾つかの実施例において、入射レーザービームの内角が遠隔面に垂直なライン(305)に対してθであるように位置している。基板の開口数(nsinθに等しい)は、一実施例において、1より大きく、遠隔面の光電陰極源材料に入射する高解像度スポットサイズ直径に結果としてなる。レーザービームからの入射エネルギーは、それによって、光電陰極源材料から対応する高解像度電子ビーム(405)を放出する。電磁レンズ構成要素は電子ビームコラムの下流に配置され、電子ビームを縮小する。この装置は、半導体電子ビームリソグラフィに対して、間断なく減少する最小フィーチャ・ディメンション・サイズを可能にする。

請求項（抜粋）：

レーザービーム源と; 電子ビームコラムであって: レーザービームに透過する材料の光電陰極支持体と; 支持体の遠隔面に配置された光電陰極源材料であって、レーザービームが遠隔面により画成される平面に垂直な線に対する角度で支持体を介して放射され、それによって電子ビームを放出するように、光電陰極源材料と支持体がレーザービーム源に対して位置する、前記光電陰極源材料と; を備える、電子ビームコラムと、を備える装置。

IPC (5件)：

H01J 37/073 , G03F 7/20 504 , G03F 7/22 , H01J 37/305 , H01L 21/027

FI (5件)：

H01J 37/073 , G03F 7/20 504 , G03F 7/22 H , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 T

Fターム (11件)：

2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097CA01 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5C030CC02 , 5C034BB01 , 5C034BB02 , 5F056AA23 , 5F056AA27 , 5F056FA02

引用特許：

審査官引用 (7件)

特許第2164787号
記憶素子および光ピックアップ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-319324 出願人：ソニー株式会社
原盤露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-076450 出願人：日立マクセル株式会社

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