ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-035222
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307840
出願日： 2003年02月13日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】ラインエッジラフネス及びPED安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物、更には感度にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、(b)特定のオキシムスルホネート構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定のオニウム塩構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(b)下記一般式(1)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、下記一般式(2)〜(4)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(1)中、R1及びR2は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基又はシアノ基を表す。R1とR2は結合して環を形成してもよい。R3はアルキル基又はアリール基を表す。また、R1とR2は、単結合又は連結基を介して、一般式(1)で表される別の化合物のR1またはR2と結合されていても良い。【化2】一般式(2)〜(4)中、R11〜R19は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基又はアリール基を表す。X-は水酸陰イオン、または分子量100以下のカルボン酸の陰イオンを表す。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (4件)

米国特許第4491628号明細書
欧州特許第29139号明細書
欧州特許出願公開第1024406号明細書

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