特許

J-GLOBAL ID：200903001067135255

感放射線性樹脂組成物

発明者： 西村 幸生 ,  小林 英一 ,  塩谷 健夫 ,  下川 努
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-344910
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166478
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 露光後の加熱処理までの引き置き時間(PED)により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)下記式(1)【化1】ここで、R1は水素原子またはメチル基でありそしてR2は3級炭素原子を有し且つ酸脱離性である炭素数11以上の脂環式アルキル基である、で表される繰返し単位およびヒドロキシスチレン類に由来する繰返し単位を含有してなる共重合体並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)【化1】ここで、R1は水素原子またはメチル基でありそしてR2は3級炭素原子を有し且つ酸脱離性である炭素数11以上の脂環式アルキル基である、で表される繰返し単位および下記式(2)【化2】ここでR3は水素原子またはメチル基である、で表される繰返し単位を含有してなる共重合体並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/06 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/06 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (27件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF14 ,  2H025BF15 ,  2H025CB14 ,  2H025CB52 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BG031 ,  4J002EB116 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU046 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (7件)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社
• フェノール/脂環式コポリマーおよびフォトレジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-309755   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-242053   出願人：富士通株式会社
• 新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307148   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-259755   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-244856   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-129729   出願人：日本合成ゴム株式会社