特許
J-GLOBAL ID：200903042523178458
ウエハ端面保護装置及びウエハ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-282031
公開番号（公開出願番号）：特開2007-095922
出願日： 2005年09月28日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】ウエハの端面を構造的に保護することにより、基盤に対するウエハ剥がれ等の処理不良を防止することができるウエハ端縁保護装置及びウエハ処理装置を提供する。【解決手段】二枚のウエハW及びOリング21,23を挟んで積層された第1の保護部材5及び第2の保護部材7と円板状部材3の外周部を第1挟持片29と第2挟持片31で挟持すると、第1の保護部材5と第2の保護部材7とが積層される。第1係止機構35と第2係止機構37で第1挟持片29と第2挟持片31を固定することにより、第1の保護部材5及び第2の保護部材7並びに円板状部材3を確実に挟持できる。挟持機構9により挟持するという簡単な動作でウエハ端面保護装置1を二枚のウエハWに取り付けることができ、効率的に処理できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理液にウエハを浸漬させてウエハの処理面を処理する際に、ウエハの非処理面及び端面を保護するウエハ端面保護装置において、
外径がウエハの外径より大きく、二枚のウエハの各々が非処理面側を面側に向けた姿勢で両面に配置される円板状部材と、
処理液に対する耐性を有し、一方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて一方のウエハの処理面を覆う第1の保護部材と、
処理液に対する耐性を有し、他方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて他方のウエハの処理面を覆う第2の保護部材と、
処理液に対する耐性を有し、前記第1の保護部材と一方のウエハの処理面との間に取り付けられた第1の液密シール材と、
処理液に対する耐性を有し、前記第2の保護部材と他方のウエハの処理面との間に取り付けられた第2の液密シール材と、
前記円板状部材の一方面に一方のウエハを配置し、前記第1の液密シール材を介して前記第1の保護部材を前記円板状部材の一方面に積層し、前記円板状部材の他方面に他方のウエハを配置し、前記第2の液密シール材を介して前記第2の保護部材を前記円板状部材の他方面に積層した状態で、前記第1の保護部材及び前記第2の保護部材並びに前記円板状部材を挟持する挟持機構と、
を備えていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/683
, H01L 21/304
H01L21/306 J
, H01L21/68 N
, H01L21/304 642Z
, H01L21/304 642A
5F031DA03
, 5F031DA13
, 5F031HA72
, 5F031LA07
, 5F031LA14
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F043AA01
, 5F043BB02
, 5F043EE35
, 5F043FF10
, 5F043GG10
