特許
J-GLOBAL ID:200903042536178279

フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法およびそれにより得られたフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 静男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-033447
公開番号(公開出願番号):特開2007-213715
出願日: 2006年02月10日
公開日(公表日): 2007年08月23日
要約:
【課題】 表面保護膜として各種用途に有用な表面エネルギーが低く、離型性、摺動性に優れ、かつ硬度の高いダイヤモンドライクカーボン薄膜を大面積に均一な膜厚で効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 フッ素化炭化水素化合物を含むガスを、イオン化電流によりプラズマ化し、それにより生じた各イオンを、被成膜部材上に吸引衝突、付着させて、フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜を形成させることを特徴とするフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
フッ素化炭化水素化合物を含むガスを、イオン化電流によりプラズマ化し、それにより生じた各イオンを、被成膜部材上に吸引衝突、付着させて、フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜を形成させることを特徴とするフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法。
IPC (2件):
G11B 7/26 ,  C23C 16/27
FI (2件):
G11B7/26 531 ,  C23C16/27
Fターム (14件):
4K030AA01 ,  4K030AA04 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030BA37 ,  4K030BB13 ,  4K030FA01 ,  4K030GA06 ,  4K030LA22 ,  4K030LA23 ,  5D121AA04 ,  5D121EE04 ,  5D121EE19 ,  5D121GG03
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 反射防止フィルム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-285848   出願人:住友金属鉱山株式会社
  • 特許第3016748号公報
  • 特許第3034241号公報
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審査官引用 (7件)
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