ガラス膜の形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：寒川誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-360088
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181827
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：

【要約】【課題】屈折率と厚さとが、ガラス膜全体にわたり同一であるようにするガラス膜の形成方法の改良である。【解決手段】二酸化シリコンを主成分とし数%乃至30%二酸化ゲルマニュウムを含む二酸化シリコン系ガラスの膜を、スパッター法を使用して、基板上に形成するガラス膜の形成方法において、スパッター法に使用するターゲットを二酸化シリコンと二酸化ゲルマニュウムとの組成物とし、その密度を、そ組成を有する充実体の70%以上とする、ガラス膜の形成方法である。

請求項（抜粋）：

二酸化シリコンを主成分とし数%乃至30%二酸化ゲルマニュウムを含んでなる二酸化シリコン系ガラスの膜を、スパッター法を使用して、基板上に形成してなすガラス膜の形成方法において、前記スパッター法に使用するターゲットは二酸化シリコンと二酸化ゲルマニュウムとの組成物であり、その体積密度は、前記組成物の組成から決まる体積密度の70%以上であることを特徴とするガラス膜の形成方法。

IPC (7件)：

C23C 14/10 , G02B 6/13 , G02B 6/12 , G02F 1/313 , H01L 21/203 , C23C 14/34 , H01L 21/316

FI (9件)：

C23C 14/10 , G02F 1/313 , H01L 21/203 S , C23C 14/34 B , C23C 14/34 C , C23C 14/34 U , H01L 21/316 Y , G02B 6/12 M , G02B 6/12 N

Fターム (35件)：

2H047KA03 , 2H047NA02 , 2H047PA04 , 2H047QA04 , 2H047RA08 , 2H047TA41 , 2K002AB05 , 2K002BA13 , 2K002CA15 , 2K002DA08 , 2K002FA07 , 2K002HA11 , 4K029AA06 , 4K029BA43 , 4K029BA46 , 4K029BC07 , 4K029BD12 , 4K029CA05 , 4K029DC05 , 4K029DC12 , 4K029DC22 , 4K029EA01 , 4K029EA09 , 5F058BA20 , 5F058BC05 , 5F058BF12 , 5F058BJ01 , 5F058BJ10 , 5F103AA08 , 5F103DD27 , 5F103DD30 , 5F103GG03 , 5F103HH03 , 5F103LL20 , 5F103RR05

引用特許：

審査官引用 (2件)

光導波路の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-113733 出願人：日立電線株式会社
光導波路及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-154155 出願人：日立電線株式会社

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