特許
J-GLOBAL ID:200903042606213875

ウエット処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-173103
公開番号(公開出願番号):特開2003-077886
出願日: 2002年06月13日
公開日(公表日): 2003年03月14日
要約:
【要約】【課題】 ウエット処理液の使用量の省液化が可能で、装置を小型化でき、ウエット処理工程に多大な設備費や占有スペースを費やすこともなく、製造ライン等に用いて合理的にウエット処理できるウエット処理装置を提供。【解決手段】 被処理基板21のウエット処理のための処理液を基板21に向けて供給する複数のウエット処理手段が設けられた処理領域32が備えられた処理室31a内に基板21を搬送してウエット処理を順次行うウエット処理装置であって、処理室31a内に基板21を傾斜した状態で搬送させる搬送コロ25が設けられ、上記複数のウエット処理手段は、一対のプッシュ・プル型ノズル41、41と、一対のプッシュ・プル型ノズル42、42から構成されたものであり、これら一対のプッシュ・プル型ノズルの対向部間に被処理基板21が搬送されてウエット処理を行うウエット処理装置31。
請求項(抜粋):
被処理物のウエット処理のための処理液を被処理物に向けて供給するウエット処理手段が設けられた複数のウエット処理領域が備えられた処理室内に被処理物を搬送してウエット処理を順次行うウエット処理装置であって、前記処理室内に前記被処理物を傾斜した状態で搬送する傾斜搬送機構が設けられたことを特徴とするウエット処理装置。
IPC (5件):
H01L 21/306 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/68
FI (5件):
B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 B ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/306 J
Fターム (17件):
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA18 ,  5F031GA53 ,  5F031MA22 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F043EE01 ,  5F043EE05 ,  5F043EE07 ,  5F043EE21 ,  5F043EE23 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40
引用特許:
審査官引用 (3件)

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