ウエット処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：福森久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-148161
公開番号（公開出願番号）：特開平11-340192
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】ウエット処理液の使用量を従来の10分1以下へと低減することができ、しかも従来よりも高い清浄度を得ることができる省水型のウエット処理装置を提供すること。【解決手段】一側に処理液3を導入する導入通路5と他側にウエット処理後の処理液3を排出する排出通路6とを備えるとともに、導入通路5と排出通路6との間に、被処理物1に対し導入通路5から導入した処理液3をガイドしかつ振動を与えながら被処理物1をウエット処理する振動ガイド部材2を備えたウエット処理本体15を設け、振動ガイド部材2と被処理物1とを所定間隙に維持し、該間隙に処理液3を保持させる位置決め部材4を設けている。

請求項（抜粋）：

一側に処理液を導入する導入通路と他側にウエット処理後の処理液を排出する排出通路とを備えるとともに、前記導入通路と前記排出通路との間に、被処理物に対し前記導入通路から導入した処理液をガイドしかつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材を備えたウエット処理本体を設け、該振動ガイド部材と前記被処理物とを所定間隙に維持し、該間隙に処理液を保持させる位置決め部材を設けてなることを特徴とするウエット処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 , B08B 3/12 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304

FI (4件)：

H01L 21/306 J , B08B 3/12 A , H01L 21/304 643 C , H01L 21/304 643 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平3-258381
特開平4-213826
基板洗浄方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-124349 出願人：エム・セテック株式会社

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