特許

J-GLOBAL ID：200903042613233164

プラズマ処理装置

発明者： 鈴木 貞之
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171220
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007081
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 安価で小さな磁石を使いながらも、円筒電極の内側表面における磁界強度を高めることのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 処理室1と、排気機構8と、処理ガス導入機構7と、処理室1内の空間を囲うように配された放電用の円筒電極2と、該円筒電極2に高周波電力を印加する手段5と、円筒電極2の内面より外周側に該円筒電極2の円筒軸方向に間隔をおいて配されると共に半径方向に逆方向に着磁されることで内周部と外周部が互いに異極とされ且つそれにより円筒電極2の内面に沿って円筒軸方向に磁力線を発する2つの磁石リング3、4とを備えたプラズマ処理装置において、前記2つの磁石リング3、4の外周部に、両磁石リング3、4の外周側の異極同士を短絡結合する円筒形磁力線遮蔽板20を設けた。

請求項（抜粋）：

基板処理のための処理室と、処理室の内部を排気する排気機構と、処理室の内部に処理ガスを導入するガス導入機構と、処理室内の空間を囲うように配された放電用の円筒電極と、該円筒電極に高周波電力を印加する手段と、前記円筒電極の内面より外周側に該円筒電極の円筒軸方向に間隔をおいて配されると共に半径方向に逆方向に着磁されることで内周部と外周部が互いに異極とされ且つそれにより円筒電極の内面に沿って円筒軸方向に磁力線を発する2つの磁石リングとを備えたプラズマ処理装置において、前記2つの磁石リングの外周部に、両磁石リングの外周側の異極同士を短絡結合する円筒形磁力線遮蔽板を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M ,  H05H 1/46 L

Fターム (6件)：

4K057DM01 ,  4K057DM29 ,  5F004AA16 ,  5F004BA13 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-272102   出願人：アネルバ株式会社, 佐藤徳芳, 飯塚哲
• 特開平2-103932
  
• 特開平2-103932